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納克微束—半導(dǎo)體失效分析解決方案2024-03-29

方案簡(jiǎn)介:

半導(dǎo)體器件生產(chǎn)過(guò)程中,缺陷的存在會(huì)不同程度影響產(chǎn)品質(zhì)量,例如關(guān)鍵位置的金屬類夾雜可能會(huì)引發(fā)器件的短路,清洗溶液不純凈引入的有機(jī)、無(wú)機(jī)析出物可能會(huì)導(dǎo)致光刻、離子注入、沉積等環(huán)節(jié)的失敗,進(jìn)而引發(fā)晶圓圖形與設(shè)計(jì)不符等問(wèn)題。因此,晶圓生產(chǎn)制造過(guò)程需要對(duì)缺陷進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)控,并對(duì)大量重復(fù)出現(xiàn)的缺陷進(jìn)行分析溯源,以快速明確夾雜、缺陷的來(lái)源,從而控制調(diào)整相關(guān)工藝,穩(wěn)定產(chǎn)品質(zhì)量。

納克微束FE-1050熱場(chǎng)發(fā)射型掃描電鏡,具有在1kV落點(diǎn)電壓(減速電場(chǎng))下1.5nm的極限分辨能力,可以對(duì)電子束敏感類材料直接成像,最小化對(duì)樣品的電子輻照損傷。

FE-1050系列掃描電鏡具有寬大的主腔室和五軸樣品臺(tái),最大可進(jìn)入φ300mm*50mm尺寸的樣品,整個(gè)系統(tǒng)提供多達(dá)27個(gè)探測(cè)器接口,最大程度為用戶觀察分析提供便利??筛鶕?jù)用戶使用場(chǎng)景,做高速采集升級(jí)改造,改造后的掃描速度可達(dá)到常規(guī)掃描電鏡的50-100倍,更適用于大面積連續(xù)掃描成像和缺陷自動(dòng)分析場(chǎng)景。

同時(shí),還可為有特殊缺陷檢測(cè)需求的用戶提供定制化的算法外包開(kāi)發(fā)服務(wù),包括但不限于傳統(tǒng)機(jī)器視覺(jué)、深度學(xué)習(xí)型機(jī)器視覺(jué)等類型的服務(wù)。定制化服務(wù)形式靈活,開(kāi)發(fā)周期可根據(jù)用戶產(chǎn)品更迭和產(chǎn)能情況及時(shí)調(diào)整。


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